電漿是氣、液、固三態外所存在的第四態。電漿的用途廣泛，高溫電漿可以產生高溫高能，應用在溶融、噴塗、燃燒、輔助化學反應等；低溫電漿應用在清潔製程或活化材料表面以形成官能基，應用在電子業製程的潔淨、蝕刻、輔助化學反應等，亦大量使用於高分子材料的前處理或聚合作用。 相較於傳統的真空電漿技術，大氣電漿系統於成本上有絕對的優勢。以設備成本而言，它不需使用昂貴及笨重的真空設備；就製程方面，工件可以不受真空腔體的限制，並可以進行連續式的程序，這些技術特色皆可有效地降低產品的製造成本。 本研討會將發表近幾年來工研院在前瞻計畫與科專計畫的研發成果，更邀請了國內的專家學者共襄盛舉，內容涵蓋電漿模擬分析與診斷、大氣電漿薄膜沉積技術、電漿光電產業應用與生醫產業之應用技術等，期望藉由此研討會，分享大氣電漿技術與目前熱門之光電產業、生醫產業之應用連結，敬邀您共同共享此一科技饗宴。 ※ 邀請對象： 1. 電漿設備及電漿製程應用相關產業工程人員 2. 各公民營及研究機構等從業人員 3. 各大專院校研究生及學生 4. 對本課程有興趣者或產官學研等人士 |
