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研討會及演講
名稱:
真空原理與技術
日期:
2008/07/14
時間:
13:30-16:20
地點:
國立交通大學
地址:
新竹市大學路1001號
主辦單位:
經濟部工業局、財團法人資訊工業策進會、台灣半導體產業協會
網址:
http://www.tsia.org.tw
連絡電話:
(03)591-3181
介紹

課程介紹:

培養學員瞭解基礎真空概論、抽氣速率與氣導之計算、壓力與Gauge量測技術、真空設備元件、質流計、sealing材料、真空幫浦系統(dry pump、root pump、cryo pump、turbo pump etc.)、真空洩漏與質譜儀、 Load-Lock Chamber & Robot Transfer、半導體真空系統與腔體維修實務,學員可將此知識,轉強於晶片製造、良率提升、以及晶片throughput的提高。

課程大綱:

1. 基礎真空概論

2. 抽氣速率與氣導之計算

3. 壓力與Gauge量測技術

4. 真空設備元件、質流計、sealing材料

5. 真空幫浦系統 (dry pump、root pump、cryo pump、turbo pump etc.)

6. 真空洩漏與質譜儀

7. Load-Lock Chamber & Robot Transfer

8. 半導體真空系統與腔體維修實務

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